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涂鍍層測(cè)厚儀的分類

涂鍍層測(cè)厚儀根據(jù)測(cè)量原理一般有以下五種類型: 

 1.磁性測(cè)厚法:適用導(dǎo)磁材料上的非導(dǎo)磁層厚度測(cè)量.導(dǎo)磁材料一般為:鋼\鐵\銀\鎳.此種方法測(cè)量精度高 . 

2.渦流測(cè)厚法:適用導(dǎo)電金屬上的非導(dǎo)電層厚度測(cè)量.此種方法較磁性測(cè)厚法精度低.   

3.超聲波測(cè)厚法:目前國(guó)內(nèi)還沒(méi)有用此種方法測(cè)量涂鍍層厚度的,國(guó)外個(gè)別廠家有這樣的儀器,適用多層涂鍍層厚度的測(cè)量或則是以上兩種方法都無(wú)法測(cè)量的場(chǎng)合.但一般價(jià)格昂貴\測(cè)量精度也不高.  

4.電解測(cè)厚法:此方法有別于以上三種,不屬于無(wú)損檢測(cè),需要破壞涂鍍層.一般精度也不高.測(cè)量起來(lái)較其他幾種麻煩.  

5.放射測(cè)厚法:此種儀器價(jià)格非常昂貴(一般在10萬(wàn)RMB以上),適用于一些特殊場(chǎng)合.   國(guó)內(nèi)目前使用zui為普遍的是第1\2兩種方法。  

常規(guī)涂層測(cè)厚儀的原理: 

  對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層，如涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等，在有關(guān)國(guó)家和標(biāo)準(zhǔn)中稱為覆層（coating）。   覆層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的*手段。為使產(chǎn)品化，我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中，對(duì)覆層厚度有了明確的要求。   覆層厚度的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等。這些方法中前五種是有損檢測(cè)，測(cè)量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。 

  X射線和β射線法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量，但裝置復(fù)雜昂貴，測(cè)量范圍較小。因有放射源，使用者必須遵守射線防護(hù)規(guī)范。X射線法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆層測(cè)厚時(shí)采用。   隨著技術(shù)的日益進(jìn)步，特別是近年來(lái)引入微機(jī)技術(shù)后，采用磁性法和渦流法的測(cè)厚儀向微型、智能、多功能、高精度、實(shí)用化的方向進(jìn)了一步。測(cè)量的分辨率已達(dá)0.1微米，精度可達(dá)到1%，有了大幅度的提高。它適用范圍廣，量程寬、操作簡(jiǎn)便且價(jià)廉，是工業(yè)和科研使用zui廣泛的測(cè)厚儀器。 

  采用無(wú)損方法既不破壞覆層也不破壞基材，檢測(cè)速度快，能使大量的檢測(cè)工作經(jīng)濟(jì)地進(jìn)行。   

測(cè)量原理與儀器  

  一． 磁吸力測(cè)量原理及測(cè)厚儀    *磁鐵（測(cè)頭）與導(dǎo)磁鋼材之間的吸力大小與處于這兩者之間的距離成一定比例關(guān)系，這個(gè)距離就是覆層的厚度。利用這一原理制成測(cè)厚儀，只要覆層與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大，就可進(jìn)行測(cè)量。鑒于大多數(shù)工業(yè)品采用結(jié)構(gòu)鋼和熱軋冷軋鋼板沖壓成型，所以磁性測(cè)厚儀應(yīng)用zui廣。測(cè)厚儀基本結(jié)構(gòu)由磁鋼，接力簧，標(biāo)尺及自停機(jī)構(gòu)組成。磁鋼與被測(cè)物吸合后，將測(cè)量簧在其后逐漸拉長(zhǎng)，拉力逐漸增大。當(dāng)拉力剛好大于吸力，磁鋼脫離的一瞬間記錄下拉力的大小即可獲得覆層厚度。新型的產(chǎn)品可以自動(dòng)完成這一記錄過(guò)程。不同的型號(hào)有不同的量程與適用場(chǎng)合。 

  這種儀器的特點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便、堅(jiān)固耐用、不用電源，測(cè)量前無(wú)須校準(zhǔn)，價(jià)格也較低，很適合車間做現(xiàn)場(chǎng)質(zhì)量控制。 

  二． 磁感應(yīng)測(cè)量原理   采用磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀，原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測(cè)頭放在被測(cè)樣本上時(shí)，儀器自動(dòng)輸出測(cè)試電流或測(cè)試信號(hào)。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭，測(cè)量感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)的大小，儀器將該信號(hào)放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設(shè)計(jì)引入穩(wěn)頻、鎖相、溫度補(bǔ)償?shù)鹊匦录夹g(shù)，利用磁阻來(lái)調(diào)制測(cè)量信號(hào)。還采用設(shè)計(jì)的集成電路，引入微機(jī)，使測(cè)量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高（幾乎達(dá)一個(gè)數(shù)量級(jí)）。現(xiàn)代的磁感應(yīng)測(cè)厚儀，分辨率達(dá)到0.1um，允許誤差達(dá)1%，量程達(dá)10mm。   磁性原理測(cè)厚儀可應(yīng)用來(lái)測(cè)量鋼鐵表面的油漆層，瓷、搪瓷防護(hù)層，塑料、橡膠覆層，包括鎳鉻在內(nèi)的各種有色金屬電鍍層，以及化工石油待業(yè)的各種防腐涂層。  

  三． 電渦流測(cè)量原理  

  高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng)，測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí)，就在其中形成渦流。測(cè)頭離導(dǎo)電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小，也就是導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。由于這類測(cè)頭專門(mén)測(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱之為非磁性測(cè)頭。非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應(yīng)原理比較，主要區(qū)別是測(cè)頭不同，信號(hào)的頻率不同，信號(hào)的大小、標(biāo)度關(guān)系不同。與磁感應(yīng)測(cè)厚儀一樣，渦流測(cè)厚儀也達(dá)到了分辨率0.1um，允許誤差1%，量程10mm的高水平。   采用電渦流原理的測(cè)厚儀，原則上對(duì)所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可測(cè)量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門(mén)窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽(yáng)極氧化膜。覆層材料有一定的導(dǎo)電性，通過(guò)校準(zhǔn)同樣也可測(cè)量，但要求兩者的導(dǎo)電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導(dǎo)電體，但這類任務(wù)還是采用磁性原理測(cè)量較為合適  

影響涂鍍層測(cè)厚儀測(cè)量值精度的因素   1．影響因素的有關(guān)說(shuō)明:   a 基體金屬磁性質(zhì) 

  磁性法測(cè)厚受基體金屬磁性變化的影響（在實(shí)際應(yīng)用中，低碳鋼磁性的變化可以認(rèn)為是輕微的），為了避免熱處理和冷加工因素的影響，應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)；亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準(zhǔn)。   b 基體金屬電性質(zhì) 

  基體金屬的電導(dǎo)率對(duì)測(cè)量有影響，而基體金屬的電導(dǎo)率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。   c 基體金屬厚度 

  每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度。大于這個(gè)厚度，測(cè)量就不受基體金屬厚度的影響。本儀器的臨界厚度值見(jiàn)附表1。   d 邊緣效應(yīng) 

  本儀器對(duì)試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行測(cè)量是不可靠的。 

  e 曲率 

  試件的曲率對(duì)測(cè)量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大。因此，在彎

曲試件的表面上測(cè)量是不可靠的。   f 試件的變形 

  測(cè)頭會(huì)使軟覆蓋層試件變形，因此在這些試件上測(cè)出可靠的數(shù)據(jù)。   g 表面粗糙度 

  基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對(duì)測(cè)量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差，每次測(cè)量時(shí)，在不同位置上應(yīng)增加測(cè)量的次數(shù)，以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙，還必須在未涂覆的粗糙度相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn)；或用對(duì)基體金屬?zèng)]有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后，再校對(duì)儀器的零點(diǎn)。   g 磁場(chǎng) 

  周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng)，會(huì)嚴(yán)重地干擾磁性法測(cè)厚工作。   h 附著物質(zhì) 

  本儀器對(duì)那些妨礙測(cè)頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感，因此，必須清除附著物質(zhì)，以保證儀器測(cè)頭和被測(cè)試件表面直接接觸。   i 測(cè)頭壓力 

  測(cè)頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì)影響測(cè)量的讀數(shù)，因此，要保持壓力恒定。   j 測(cè)頭的取向 

  測(cè)頭的放置方式對(duì)測(cè)量有影響。在測(cè)量中，應(yīng)當(dāng)使測(cè)頭與試樣表面保持垂直。   2．使用儀器時(shí)應(yīng)當(dāng)遵守的規(guī)定:   a 基體金屬特性   對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。 

  對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。   b 基體金屬厚度 

  檢查基體金屬厚度是否超過(guò)臨界厚度，如果沒(méi)有，可采用3.3中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)。   c 邊緣效應(yīng) 

    不應(yīng)在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量。   d 曲率 

  不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量。   e 讀數(shù)次數(shù) 

  通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同，因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測(cè)量，表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。    f 表面清潔度 

  測(cè)量前，應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì)，如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。    

涂鍍層測(cè)厚儀中F，N以及FN的區(qū)別： 

  F代表ferrous鐵磁性基體，F(xiàn)型的涂層測(cè)厚儀采用電磁感應(yīng)原理，來(lái)測(cè)量鋼、鐵等鐵磁質(zhì)金屬基體上的非鐵磁性涂層、鍍層，例如：漆、粉末、塑料、橡膠、合成材料、磷化層、鉻、鋅、鉛、鋁、錫、鎘、瓷、琺瑯、氧化層等。 

  N代表Non-ferrous非鐵磁性基體，N型的涂層測(cè)厚儀采用電渦流原理；來(lái)測(cè)量用渦流傳感器測(cè)量銅、鋁、鋅、錫等基體上的琺瑯、橡膠、油漆、塑料層等。  

  FN型的涂層測(cè)厚儀既采用電磁感應(yīng)原理，又采用采用電渦流原理，是F型和N型的二合一型涂層測(cè)厚儀。用途見(jiàn)上。如CMI153涂鍍層測(cè)厚儀是FN型雙功能測(cè)厚儀；

CEM華盛昌DT-156涂鍍層測(cè)厚儀

【產(chǎn)品描述】
DT-156涂鍍層測(cè)厚儀探頭可以在電磁感應(yīng)和渦流兩種原理下工作。在自動(dòng)模式（AUTO）下，兩種原理可視測(cè)量的基體自動(dòng)轉(zhuǎn)換，或可通過(guò)菜單進(jìn)行自動(dòng)模式和非自動(dòng)模式轉(zhuǎn)換。

CEM華盛昌DT-156涂鍍層測(cè)厚儀【產(chǎn)品特性】
1、可測(cè)量涂鍍層： 任何磁性物質(zhì)表面的非磁性涂鍍層厚度；任何非磁性金屬表面的絕緣涂鍍層厚度
2、易于操作的菜單設(shè)計(jì)
3、連續(xù)和單次測(cè)量方式
4、直接工作模式和組工作模式
5、可統(tǒng)計(jì)并顯示：平均值、zui大值、zui小值、標(biāo)準(zhǔn)方差、統(tǒng)計(jì)數(shù)
6、非常方便的進(jìn)行一點(diǎn)或兩點(diǎn)校準(zhǔn)
7、可保存320個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù)
8、USB傳輸數(shù)據(jù)至計(jì)算機(jī)分析統(tǒng)計(jì)
9、實(shí)時(shí)刪除測(cè)量數(shù)據(jù)和組數(shù)據(jù)
10、高低限報(bào)警
11、低電和錯(cuò)誤提示可設(shè)置的自動(dòng)關(guān)機(jī)功能

CEM華盛昌DT-156涂鍍層測(cè)厚儀【技術(shù)指標(biāo)】

單位換算：

1、mil（PCB或晶片布局的長(zhǎng)度單位）：1 mil =千分之一英寸，1mil = 0.0254mm。

2、um有時(shí)也做微米（單位）使用，1mm（毫米）=1000um（微米) 1um=1000nm(納米）。

使用方法

1、工作模式：
1-1.AOTO：探頭根據(jù)待測(cè)物體性質(zhì)(鐵磁性物質(zhì)或非鐵磁性金屬)自動(dòng)轉(zhuǎn)入相應(yīng)工作模式。如果待測(cè)物體是鐵鎳等磁性金屬物質(zhì)，探頭將轉(zhuǎn)入磁感應(yīng)原理工作模式；如果待測(cè)物體時(shí)非磁性的金屬物質(zhì)，探頭將轉(zhuǎn)入渦流原理工作模式。
1-2.Fe：探頭將是磁感應(yīng)原理工作模式。
1-3.No-Fe：探頭將是渦流原理工作模式。
2、直接測(cè)量(DIR)：開(kāi)機(jī)默認(rèn)為此模式。用于快速隨意測(cè)量。在此模式下，測(cè)量數(shù)據(jù)會(huì)臨時(shí)保存在內(nèi)存中，可以通過(guò)菜單瀏覽所有已存數(shù)據(jù)和統(tǒng)計(jì)值，但一旦關(guān)機(jī)、系統(tǒng)掉電或從直接測(cè)量模式切換到組工作模式，這些數(shù)據(jù)將會(huì)丟失。此模式下，zui多可統(tǒng)計(jì)80個(gè)數(shù)據(jù)，超出的讀數(shù)將替換zui舊讀數(shù)并保存更新統(tǒng)計(jì)值。
3、組測(cè)量(GR01～GR04)：每一組工作模式下，系統(tǒng)可保存zui多80個(gè)數(shù)據(jù)，5個(gè)統(tǒng)計(jì)值。關(guān)機(jī)和掉電，所有保存值不會(huì)丟失，并且組與組之間相互獨(dú)立不受影響，需要?jiǎng)h除保存的值，可通過(guò)菜單操作進(jìn)行。當(dāng)測(cè)量數(shù)據(jù)超出80個(gè)，數(shù)據(jù)測(cè)量可以繼續(xù)進(jìn)行，但是所有數(shù)據(jù)將不被保存和統(tǒng)計(jì)計(jì)算。如有需要，可通過(guò)菜單刪除組數(shù)據(jù)。

4、讀數(shù)瀏覽：通過(guò)“Measurement view"菜單項(xiàng)，瀏覽當(dāng)前工作組所有測(cè)量讀數(shù)。
5、測(cè)量中的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)：厚度統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)可統(tǒng)計(jì)80個(gè)讀數(shù)(GR01～GR04總共zui多可存儲(chǔ)4*80=320個(gè)讀數(shù))。此外，在DIR模式除了讀數(shù)不存儲(chǔ)外，其他和GRO模式相同。
NO.：開(kāi)機(jī)以來(lái)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)的讀數(shù)個(gè)數(shù)
AVG：平均值
Sdev：標(biāo)準(zhǔn)方差
MAX：zui大讀數(shù)
MIN：zui小讀數(shù)

包裝清單:
涂鍍層測(cè)厚儀*1使用說(shuō)明書(shū) *1合格證 *1電池*2硬盒*1彩盒*1 USB連接線纜*1軟件CD*1探頭*1鋼鐵基體*1鋁塊基體*1標(biāo)準(zhǔn)薄片*2

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